สีเทาเข้มเมทัลลิกเป็นเงาไทเทเนียมหลอดเป้าหมายโมดูลัสยืดหยุ่นต่ำ

133OD*125ID*2940L รวมหน้าแปลนท่อไทเทเนียม Target Titanium Gr2 ASTM B861-06 a การเคลือบสูญญากาศของวัสดุเป้าหมาย

แนวโน้มการพัฒนาเทคโนโลยีของวัสดุเป้าหมายมีความเกี่ยวข้องอย่างใกล้ชิดกับแนวโน้มการพัฒนาเทคโนโลยีฟิล์มในอุตสาหกรรมประยุกต์ปลายน้ำด้วยการพัฒนาเทคโนโลยีของผลิตภัณฑ์ฟิล์มหรือส่วนประกอบในอุตสาหกรรมแอพพลิเคชั่น เทคโนโลยีเป้าหมายก็ควรเปลี่ยนตามไปด้วยในบรรดาอุตสาหกรรมการใช้งานทั้งหมด อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์มีข้อกำหนดด้านคุณภาพที่เป็นที่ต้องการมากที่สุดสำหรับฟิล์มสปัตเตอร์เป้าหมายวันนี้ผลิตเวเฟอร์ซิลิกอนขนาด 12 นิ้วความกว้างของการเชื่อมต่อถึงกันลดลงผู้ผลิตแผ่นเวเฟอร์ต้องการขนาดใหญ่ ความบริสุทธิ์สูง การแยกส่วนต่ำ และเม็ดละเอียดสำหรับเป้าหมาย ซึ่งต้องการให้เป้าหมายมีโครงสร้างจุลภาคที่ดีกว่าเส้นผ่านศูนย์กลางอนุภาคคริสตัลและความสม่ำเสมอของชิ้นงานถือเป็นปัจจัยสำคัญที่ส่งผลต่ออัตราการสะสมของฟิล์มจอแบน (FPD) ได้ส่งผลกระทบอย่างมากต่อจอคอมพิวเตอร์ที่ใช้หลอดรังสีแคโทด (CRT) และตลาดโทรทัศน์ในช่วงไม่กี่ปีที่ผ่านมา และจะผลักดันเทคโนโลยีเป้าหมายของ ITO และความต้องการของตลาดด้วยเป้าหมายของ ITO ในปัจจุบันมี 2 แบบหนึ่งคือผสมอินเดียมออกไซด์นาโนสเตทและผงดีบุกออกไซด์แล้วเผา อีกวิธีหนึ่งคือการใช้เป้าหมายโลหะผสมดีบุกอินเดียมฟิล์ม ITO สามารถทำจากเป้าหมายโลหะผสมดีบุกอินเดียมได้โดยการสปัตเตอร์รีแอกทีฟกระแสตรง แต่อัตราการสปัตเตอร์จะได้รับผลกระทบจากการเกิดออกซิเดชันของพื้นผิวเป้าหมาย และไม่ง่ายที่จะได้เป้าหมายที่เป็นโลหะแพลตติเมทัลขนาดใหญ่ในแง่ของเทคโนโลยีการจัดเก็บข้อมูล การพัฒนาฮาร์ดดิสก์ที่มีความหนาแน่นสูงและความจุสูงนั้นต้องใช้วัสดุฟิล์มขนาดยักษ์จำนวนมากฟิล์มคอมโพสิตหลายชั้น CoF~Cu เป็นโครงสร้างฟิล์มฝืนขนาดยักษ์ที่ใช้กันอย่างแพร่หลาย

ข้อดีหลัก
ความหนาแน่นต่ำความแรงของสเปคสูง
ปรับแต่งคำขอที่กำหนดเอง
ทนต่อการกัดกร่อนได้ดีเยี่ยม
ทนความร้อนได้ดี
ประสิทธิภาพอุณหภูมิต่ำที่ยอดเยี่ยม
คุณสมบัติทางความร้อนที่ดี
โมดูลัสยืดหยุ่นต่ำ