เป้าหมายของ GMR Films Gr2 Sputtering Tube สำหรับ Magneto Optical Disc

ท่อไทเทเนียม Target Titanium Gr2 ASTM B861-06 a 133OD*125ID*2140L Target Sputtering

เป้าหมายการเคลือบเป็นแหล่งสปัตเตอร์ที่สร้างฟิล์มที่ใช้งานได้หลากหลายบนซับสเตรตโดยแมกนีตรอนสปัตเตอร์ การชุบไอออนแบบมัลติอาร์ค หรือระบบการเคลือบประเภทอื่นๆ ภายใต้สภาวะทางเทคโนโลยีที่เหมาะสมพูดง่ายๆ คือ วัสดุเป้าหมายคือวัสดุเป้าหมายของการทิ้งระเบิดด้วยอนุภาคที่มีประจุด้วยความเร็วสูงเมื่อใช้ในอาวุธเลเซอร์พลังงานสูง ความหนาแน่นของพลังงานที่ต่างกัน รูปคลื่นสัญญาณที่ส่งออกต่างกัน และความยาวคลื่นที่แตกต่างกันของเลเซอร์จะโต้ตอบกับเป้าหมายที่แตกต่างกัน เอฟเฟกต์การฆ่าและการทำลายล้างที่แตกต่างกันจะถูกสร้างขึ้นในบรรดาอุตสาหกรรมการใช้งานทั้งหมด อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์มีข้อกำหนดด้านคุณภาพที่เข้มงวดที่สุดสำหรับฟิล์มเป้าหมายที่สปัตเตอร์วันนี้มีการผลิตชิปซิลิกอนขนาด 12 นิ้ว (300 epistaxis)การเชื่อมต่อระหว่างกันกำลังหดตัวในความกว้างผู้ผลิตแผ่นเวเฟอร์ต้องการขนาดใหญ่ ความบริสุทธิ์สูง การแยกชั้นต่ำ และเม็ดละเอียด ซึ่งต้องการโครงสร้างจุลภาคที่ดีกว่าของเป้าหมายที่ผลิตขึ้นเส้นผ่านศูนย์กลางอนุภาคคริสตัลและความสม่ำเสมอของวัสดุเป้าหมายถือเป็นปัจจัยสำคัญที่ส่งผลต่ออัตราการสะสมของฟิล์มบางในด้านเทคโนโลยีการจัดเก็บข้อมูล การพัฒนาฮาร์ดดิสก์ที่มีความหนาแน่นสูงและความจุสูงต้องใช้ฟิล์ม GMR จำนวนมากฟิล์มคอมโพสิตหลายชั้น CoF~Cu ถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในฟิล์ม GMRวัสดุเป้าหมายโลหะผสม TbFeCo ที่จำเป็นสำหรับแผ่นแม่เหล็ก-ออปติคัลยังคงได้รับการพัฒนาเพิ่มเติมแผ่นแม่เหล็กออปติคัลที่ผลิตขึ้นมีลักษณะเฉพาะของความจุขนาดใหญ่ อายุการใช้งานยาวนาน และการเขียนซ้ำแบบลบได้โดยไม่สัมผัส

คุณสมบัติ

1. ความหนาแน่นต่ำและมีความแข็งแรงสูง
2. ปรับแต่งตามแบบที่ลูกค้าต้องการ
3. ทนต่อการกัดกร่อนได้ดี
4. ทนความร้อนได้ดี
5. ทนต่ออุณหภูมิต่ำ
6. ทนความร้อน